エレクトロクロミズムといえば、多くの人が WO3 フィルムを思い浮かべるでしょうし、もちろん Ti ドープ三酸化タングステンフィルムを思い浮かべる人も多いでしょう。たとえば、異なる酸素分圧が薄膜の構(gòu)造特性に與える影響を研究するために、Ti ドープ WO3 薄膜を作成した専門家もいたことを覚えています。具體的な準(zhǔn)備手順は次のとおりです。
詳細(xì)については、以下をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
タングステンチタン合金（質(zhì)量比6%のチタン含有）をターゲットとして使用し、パルスDCパワー反応性スパッタリングにより、TiドープWO3薄膜をFTO透明導(dǎo)電性ガラス（シート抵抗約20Ω）基板上に堆積しました。スパッタリング前に、バックグラウンド真空を4.5*10-4Pa未満に排気し、高純度アルゴン（99.9％Ar）を作動(dòng)ガスとして使用し、高純度酸素（99.9％O2）を反応ガスとして使用し、基板溫度を350°Cにし、作動(dòng)ガス圧力を1.7Paに固定し、O2流量を7sccm、9sccm、13sccm、15sccmに変更して、異なる酸素分圧のTiドープWO3膜を堆積しました。作動(dòng)ガス圧力は一定であるため、O2 流量が増加すると、Ar 分圧が低下し、単位時(shí)間あたりにターゲット表面に衝突する Ar+ の數(shù)が減少し、スパッタされる W 原子の數(shù)が減少して、堆積速度が低下します。
