Ti ドープ三酸化タングステンエレクトロクロミック膜は、パルス DC 反応性マグネトロンスパッタリングによって、さまざまな酸素分圧條件下で FTO 透明導(dǎo)電性ガラス基板上に作成できる新しいタイプのエレクトロクロミック材料です。
詳細(xì)については、以下をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
フィルムのエレクトロクロミック周期的安定性は、酸素分圧の増加とともに最初は増加し、その後減少します。酸素流量が13sccmのとき、Tiドープ三酸化タングステンのエレクトロクロミック周期安定性は最も良好で、550nmでの光変調(diào)振幅は62%です。 200 サイクル後、フィルムは良好なエレクトロクロミック振幅とサイクル安定性を示します。同時(shí)に、酸素分圧を高めると、フィルムの著色および退色の応答時(shí)間が短縮され、フィルムの色の変化率が高まります。
