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モリブデンドープWO3エレクトロクロミック膜

モリブデンをドープしたWO3エレクトロクロミックフィルムは、マグネトロンスパッタリングとスプレーを組み合わせて調(diào)製できます。それでは、マグネトロンスパッタリングとスプレーコーティングによってモリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミック膜を調(diào)製する具體的な手順を知っていますか?

詳細(xì)については、次をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

モリブデンをドープしたWO3エレクトロクロミック膜の寫(xiě)真

まず、FTO導(dǎo)電性ガラスを前処理する必要があります。

1.0 FTO導(dǎo)電性ガラスのクリーニング:面積5 x 2.5 cmの透明なFTO導(dǎo)電性ガラスを、それぞれドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液、超純水、エタノール、アセトンに入れ、20分間超音波処理してFTOの表面不純物を除去しました。窒素で乾燥させ、乾燥させます。

2.0 FTO導(dǎo)電性ガラスの表面活性処理:ステップ1.0で処理したFTO導(dǎo)電性ガラスをDT-01プラズマプロセッサに入れて、表面をプラズマ処理しました。

次に、モリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムの調(diào)製をマグネトロンスパッタリングで行い、モリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムの薄層をFTO導(dǎo)電性ガラスの表面にマグネトロンスプレーし、スパッタリング時(shí)間は、フィルムの厚さを制御するために使用されます。その中で、スパッタリング時(shí)間はそれぞれ2分、4分、6分でした。次に、酸化タングステンナノインクの層が、スプレーによるマグネトロンスパッタリングにより調(diào)製されたフィルム上にスプレーされる。

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