近赤外吸収膜の製造に用いられる酸化セシウムタングステンは、Cs 0.33 WO 3ナノ粒子またはCs 0.32 WO 3ナノ粒子であってもよい。Cs 0.33 WO 3ナノ粉末を機(jī)能材料として使用すると仮定すると、使用するCs 0.33 WO 3の粒度は調(diào)製した近赤外吸収膜の近赤外遮蔽効果に影響するため、調(diào)製過(guò)程でCs 0.33 WO 3の粒度に影響する要因を理解する必要がある。
詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
ボールミル時(shí)間。一部の専門家はCs 0.33 WO 3粒子サイズに対するボールミル時(shí)間の影響を研究した。その結(jié)果、ボールミル3、6、9時(shí)間後、ナノ粒子の平均粒徑はまず減少し、その後増加することが分かった。これは、適度なボールミルが凝集したナノ粒子の分散に有利であることを示している。一方、ボールミル時(shí)間が長(zhǎng)すぎると、粒子が活性表面に露出する。同時(shí)に、ボールミルの高溫はナノ粒子を不安定にし、二次凝集が起こりやすい。
