鎢管可以採用化學(xué)氣相沉積（CVD）製備得到。CVD技術(shù)是製備純鎢製品的重要方法。20世紀(jì)80年代末，國外已有採用CVD技術(shù)製備高緻密度、高純度金屬鎢製品的研究報告。近年來，國內(nèi)也大量開展了CVD製備鎢塗層的工藝、組織、結(jié)構(gòu)及性能方面的研究。
採用切環(huán)測量法及 X 射線應(yīng)力分析方法對化學(xué)氣相沉積製備的鎢管進(jìn)行測量與分析。結(jié)果表明：
1.鎢管沿圓周方向存在殘餘壓應(yīng)力。殘餘應(yīng)力大小隨沉積工藝溫度升高而降低，隨沉積製備鎢管管徑加大而降低。
2.鎢管記憶體在較大的殘餘應(yīng)力。經(jīng)退火處理後殘餘應(yīng)力值下降，應(yīng)力狀態(tài)發(fā)生變化。
3.鎢管內(nèi)表面低凹處萌生裂紋，裂紋沿著柱狀晶晶界向鎢管外壁擴(kuò)展。
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